真空在镀膜工业中的应用
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。
如果从真空镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话，这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分，其分类如表 6 所示。现就其几个主要应用方面做一简单介绍。
首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤色片。高反射膜从大口径的天文望远镜和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜茉莉，都很需要。
增透膜则大量用于照相和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜玻璃，都很需要。增透膜则大量用于照相机和电视摄象机的镜头上。在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和�；つ�。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( CCD )也都甬道各种薄膜。
在显示器件方面，录象磁头、高密度录象带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用真空镀膜法制备。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。
此外还可以对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝线等蒸镀装饰用薄膜，以及采用溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多弧离子镀制备钛金制品，如不锈钢薄板、镜面板、包柱、扶手、高档床托架、楼梯栏杆等目前正在盛行。
表 6 真空表面处理技术的分类
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表面处理目的 |
处理方法 |
粒子运动能量 |
工作方式 |
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等离子体 |
高真空 |
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薄膜沉积（表面厚度增加） |
PVD |
真空蒸发镀膜 |
0.1~1ev |
等离子熔射辉光放电分解 |
电阻加热蒸发 加子束蒸发 真空电弧蒸发 真空感应蒸发 分子束外延 |
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蔗农溅射镀膜 |
10~100ev |
放电方式：直流、交流、高频 电极数值： 2 级、 3 级、 4 级 反应溅射、磁控溅射、对向靶溅射 |
离子束溅射镀膜 |
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真空离子镀膜 |
数 10~5000ev |
直流二级型 多阴极型 ARE 型、增强 ARE HCD 型 高频型 |
单一离子束镀膜 集团离子束镀膜 |
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CVD |
化学反应热扩散 |
等离子增强化学气和沉积（ PCVD ） |
低压等离子化学气相沉积 （ LPCVD ） |
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微细加工（表面厚度减少） |
离子刻蚀 |
数百 ev~ 数 kev |
高频溅射刻蚀 等离子刻蚀 反应离子刻蚀 |
离子束刻蚀 反应离子束刻蚀 电子束刻蚀 X 射线曝光 |
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表面改性（不改变表面厚度） |
离子注入 |
数 kev~1000kec |
活性离子冲击离子氮化 |
离子注入 |
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